4月9日，四川红芯新材料有限公司特种氟化物新材料建设项目环境影响评价第一次公示。

在电子工业中，三氟化氯因其独特的化学结构，化学活性倾向于氟却比氟温和许多，比氟碳化合物更为环保，其全球变暖潜能值（GWP）为零，被视为理想的化学汽相淀积（LPCVD）清洗气体。

在集成电路产业，因其高反应活性，常温下即可与固体残留物生成挥发性氟化硅化合物，用三氟化氯进行清洗是一种化学蚀刻过程，在相应的高压条件下，在材料供应充足的情况下，刻蚀去除率可达10μm/min 以上。

我国半导体产业发展迅速，产业规模庞大，三氟化氯是一种高性能蚀刻剂，可用于14nm制程以下芯片刻蚀中。我国芯片制造技术正在不断进步，14nm芯片已经实现量产，14nm以下芯片研发能力不断增强，未来三氟化氯需求有望不断增长。

不过，三氟化氯化学性质过于活泼，生产及应用危险性大，全球范围内量产企业数量少，主要是日本的关东电化、旭硝子等，我国仅少数企业（如福建德尔）可以量产，难以满足日益增长的下游市场需求。因此，我国三氟化氯进口替代需求越来越迫切。

来源：氟化工整理